Arcmaszk Holy Land Cosmetics A-Nox+Retinol Mask

Az izraeli kozmetikai cég szakértői által készített A-Nox+retinol arcmaszk főként problémás bőrű nők számára lett tervezve. A Holy Land Cosmetics egy sokoldalú formulát fejlesztett ki, amely gyorsan és megbízhatóan gyógyít, hidratál és normalizálja a bőr pH-egyensúlyát. A problémás bőr nem ítélet. A maszk aktív összetevői közé tartoznak a bentonit vegyületek, glicerin, cink-oxid és titán-dioxid, amelyek kulcsfontosságú szerepet játszanak a bőr zsírtalanításában. A retinol segít a tisztítás utáni gyógyulásban. A szalicilsav lehetővé teszi az elhalt sejtek fájdalommentes lehámlasztását, míg a természetes allantoin növeli a sejtek víztartalmát.

A A-Nox+retinol maszk használata különös figyelmet igényel. Csak takarékosan és kizárólag a gyulladt területekre kell felvinni. Használat után az anti-inflammatorikus maszk hűsítő hatást fejt ki a már megtisztított bőrön. Az összetevők kiemelkedő tulajdonságai összehúzzák a pórusokat, normalizálják a bőrtónust és csökkentik a faggyúmirigyek váladékának termelődését.